NIL
La Lithographie par Nano-Impression (NIL, Nano Imprint Lithography) permet de dupliquer des motifs dont les dimensions peuvent être de quelques dizaines ou centaines de nanomètres. Il existe deux principaux procédés :
- La Nanolithographie UV (UV-NIL)
- La Lithographie par Emboutissage à Chaud (HEL, Hot Embossing Lithography)
La Lithographie par Nano-Impression UV (UV-NIL) est une méthode de nano-impression basée sur une dispense de résine en local puis une polymérisation par lumière ultraviolette et une force contrôlées. En fonction des besoins des applications, la photorésine peut être dispensée avant ou après l’alignement.
La Lithographie par Emboutissage à Chaud repose sur une force et une température contrôlées pendant le procédé d’impression.
À moins que le substrat soit lui-même un thermoplastique, tel que le polycarbonate par exemple, il est revêtu d’un matériau d’emboutissage à chaud (résine thermoplastique ou polymère) à l’aide d’une tournette (spin coater).