NIL

Die Nano-Imprint-Lithographie (NIL) ermöglicht, Strukturen zu reproduzieren, deren Größen so klein wie einige Dutzende oder Hunderte von Nanometern sein können.

Es gibt zwei Hauptprozesse:

• UV-NIL
• Heißpräge-Lithographie (HEL)

UV-NIL ist ein Nano-Imprint-Verfahren, das auf Material-Dosierung am Ort basiert wird und dann gesteuerte nachfolgende UV-Härtung und Druck verwendet. Je nach Anwendungsanforderungen kann der Photolack nach oder vor der Ausrichtung dosiert werden.

HEL setzt während des Prägeverfahrens auf Temperatur- und Drucksteuerung.

Vorausgesetzt, dass das Substrat nicht selbst ein thermoplastisches Material wie z.B. Polycarbonat ist, wird es mit dem Heißprägungsmaterial (thermoplastisches Abdeckmittel oder Polymer) mithilfe von Spin-Coater beschichtet.

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