NIL

纳米压印光刻技术(NIL)可以复制尺寸小至几十纳米或几百纳米的图案。存在两个主要过程:

无紫外线
热压光刻(HEL)

  • UV-NIL 是一种基于原位材料分配的纳米压印方法,然后进行受控的后续紫外线固化和压力。根据应用要求,可以在对准之前或之后分配光刻胶。
  • HEL 在压印过程中使用受控的温度和压力。

除非基材是热塑性材料(例如聚碳酸酯),否则使用旋涂法涂覆热压花材料(热塑性抗蚀剂或聚合物)。

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